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研發(fā)測(cè)試及試驗(yàn)中心建設(shè)項(xiàng)目報(bào)告表全本公示
發(fā)布日期:2023-02-24

按照《建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境影響評(píng)價(jià)信息公開(kāi)機(jī)制方案》(環(huán)發(fā)[2015]162號(hào))文件要求,現(xiàn)將研發(fā)測(cè)試及試驗(yàn)中心建設(shè)項(xiàng)目相關(guān)情況公示如下:

1.項(xiàng)目名稱:研發(fā)測(cè)試及試驗(yàn)中心建設(shè)項(xiàng)目

2.建設(shè)地點(diǎn):珠海市高新區(qū)金鼎工業(yè)片區(qū)金環(huán)路以北、金園二路西側(cè)自建廠房(珠海高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū))

3.建設(shè)單位:珠海市威兆半導(dǎo)體有限公司

4.項(xiàng)目概況:

珠海市威兆半導(dǎo)體有限公司投資19654.94萬(wàn)元于珠海市高新區(qū)金鼎工業(yè)片區(qū)金環(huán)路以北、金園二路西側(cè)自建廠房(珠海高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū))建設(shè)研發(fā)測(cè)試及試驗(yàn)中心建設(shè)項(xiàng)目(以下簡(jiǎn)稱項(xiàng)目”),建設(shè)內(nèi)容主要是集成電路芯片的設(shè)計(jì)及優(yōu)化,通過(guò)不同類型實(shí)驗(yàn)設(shè)備測(cè)試驗(yàn)證芯片設(shè)計(jì)方案的可行性。年研發(fā)MOSFET、IGBT、SiCMOS三類芯片合計(jì)共10000顆。

 

報(bào)告表公示稿鏈接:鏈接:https://pan.baidu.com/s/13-XYnmwjI5z4A6FIIkCsKA

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